日本索尼公司成功開發的使用超臨界二氧化碳，清除在制備超大規模集成電路過程中的干燥一蝕刻殘留的光刻膠。

    在通用的超大規模集成電路制備過程中使用各種光刻膠，它們的殘余物是使用等離子體一消失法來剝離的，過程中使用硫酸、過氧化氫和有機沖洗液。與此法相比，現今使用超臨界二氧化碳對環境更無害。

    目前，電子工業正加速推廣使用超臨界二氧化碳 ，不僅為了清除光刻膠，還可用于電子器件內微型構件的沖洗和干燥。

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